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Area Micro-electromechanical systems (MEMS) / Machining technology

IEV ref 523-05-14

en
inductively coupled plasma
ICP
high-density plasma generated by a high-intensity inductively coupled electromagnetic field

Note 1 to entry: Inductively coupled plasma is used in etching processes such as deep reactive ion etching.

Note 2 to entry: This note applies to the French language only.


[SOURCE: IEC 62047-1:2016, 2.5.30, modified – In the definition, "inductive coupling" has been replaced by "a high-intensity inductively coupled electromagnetic field".]


fr
plasma à couplage inductif, m
ICP, m
plasma haute densité produit par un champ électromagnétique à haute intensité couplé inductivement

Note 1 à l’article: Le plasma à couplage inductif est utilisé dans les procédés de gravure tels que la gravure ionique réactive profonde.

Note 2 à l’article: Le terme abrégé "ICP" est dérivé du terme anglais développé correspondant "inductively coupled plasma".


[SOURCE: IEC 62047-1:2016, 2.5.30, modifié – Dans la définition, "couplage inductif" a été remplacé par "un champ électromagnétique à haute intensité couplé inductivement".]


de
induktiv gekoppeltes Plasma, n
ICP

ja
誘導結合型プラズマ

nl BE
inductief gekoppeld plasma, n
ICP, n

pl
plazma sprzężona indukcyjnie, f
ICP

pt
plasma com acoplamento por indução
ICP

zh
电感耦合等离子体
ICP

Publication date: 2018-12
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