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Area Micro-electromechanical systems (MEMS) / Machining technology

IEV ref 523-05-08

en
isotropic etching
etching process in which the etching rate does not vary with the crystallographic orientation or direction of the energy beams

Note 1 to entry: A typical isotropic etchant for silicon is HF/HNO3/CH3COOH (HNA) solution.


[SOURCE: IEC 62047-1:2016, 2.5.23]


fr
gravure isotrope, f
procédé de gravure dans lequel la vitesse de gravure ne varie pas en fonction de l’orientation cristallographique ou de la direction des faisceaux énergétiques

Note 1 à l’article: L’agent de gravure isotrope typique pour le silicium est la solution HF/HNO3/CH3COOH (HNA).


[SOURCE: IEC 62047-1:2016, 2.5.23]


de
isotropes Ätzen, n

ja
等方性エッチング

nl BE
isotroop etsen, n

pl
trawienie izotropowe, n

pt
decapagem isotrópica
gravura isotrópica

zh
各向同性刻蚀

Publication date: 2018-12
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